Poprosić o wycenę
Polish
Dom ProduktyRozpylanie celówNiklowy granulowany celownik rozpylający do fizycznego osadzania z fazy gazowej Certyfikat ISO 9001
Nickel Granular Sputter Target For Physical Vapor Deposition ISO 9001 Certificate
Nickel Granular Sputter Target For Physical Vapor Deposition ISO 9001 Certificate Nickel Granular Sputter Target For Physical Vapor Deposition ISO 9001 Certificate

Niklowy granulowany celownik rozpylający do fizycznego osadzania z fazy gazowej Certyfikat ISO 9001

Szczegóły Produktu:
Miejsce pochodzenia: CHINY
Nazwa handlowa: JINXING
Orzecznictwo: ISO 9001
Numer modelu: Granulat niklu
Zapłata:
Minimalne zamówienie: 1kg
Cena: 20～150USD/kg
Szczegóły pakowania: Skrzynia ze sklejki
Czas dostawy: 10 ～ 25 dni roboczych
Zasady płatności: L/c, D/A, D/P, T/T, Western Union
Możliwość Supply: 100000 kg / M
Skontaktuj się teraz

Szczegóły informacji
Material: Nickel Granular Process: CIP, HIP Pressing, Melting
Size: Customized Application: PVD Coating system
Shape: Granular, cylinder , pieces, sheets Grain Size: Fine Grain Size, Good density
Purity:: 99.95%, 99.99%, 99.999% Density: 8.9g/cm3
High Light:

cele rozpylania metalu

,

cel napylania wolframu

opis produktu

Nikiel Granulacja czystości 99,95%, 99,99%, 99,999% 3x3mm, 6x6mm, 3x6mm

Materiał o wysokiej czystości, materiał o bardzo wysokiej czystości, materiał półprzewodnikowy o wysokiej czystości


Świat materiałów zapewnia materiały o wysokiej czystości od 4N do 7N: jako podstawowe materiały przemysłu półprzewodników i przemysłu elektronicznego, materiały o wysokiej czystości są szeroko stosowane w różnych dziedzinach przemysłu, w tym polowych osłonach luminescencyjnych, termoelektronice, elektronice, informacji, podczerwieni, ogniwach słonecznych , wysokowydajne stopy itp. Jinxing matech dostarcza pełną gamę materiałów o bardzo wysokiej czystości, aby zaspokoić potrzeby klientów krajowych i międzynarodowych. Zapewniamy nie tylko surowce o wysokiej czystości, ale także możemy wytwarzać dla klientów różne surowce o wysokiej czystości, takie jak cel magnetronowy do napylania metali o bardzo wysokiej czystości, cel magnetronowy do napylania ogniw słonecznych, materiał powłokowy do odparowywania folii słonecznej, elektronika o wysokiej czystości walcówka, taśma, proszek ...


Dostarczanie docelowej płyty rozpylającej, usługa wiązania: centrum zapewnia różnorodną docelową płytkę rozpylającą, w tym beztlenową miedź, molibden, aluminium, stal nierdzewną i inne materiały. Jednocześnie zapewnia usługę spawania między tarczą a tylną płytą.

Granulat niklowy 99,99%, cylinder niklowy 99,99% są dostępne w różnych rozmiarach

3x3mm, 6x6mm, 3x6mm itp

Nazwa produktu Element Purirty Temperatura topnienia ℃ Gęstość (g / cm3) Dostępne kształty
High Pure Sliver Ag 4N-5N 961 10,49 Drut, arkusz, cząstki, cel
Wysokie czyste aluminium Glin 4N-6N 660 2.7 Drut, arkusz, cząstki, cel
High Pure Gold Au 4N-5N 1062 19,32 Drut, arkusz, cząstki, cel
Wysoki Czysty Bizmut Bi 5N-6N 271,4 9,79 Cząstka, cel
Wysoko czysty kadm Płyta CD 5N-7N 321,1 8,65 Cząstka, cel
High Pure Cobalt Współ 4N 1495 8,9 Cząstka, cel
Chrom o wysokiej czystości Cr 3N-4N 1890 7.2 Cząstka, cel
Wysoka czysta miedź Cu 3N-6N 1083 8,92 Drut, arkusz, cząstki, cel
High Pure Ferro Fe 3N-4N 1535 7,86 Cząstka, cel
Wysoka czysta german Ge 5N-6N 937 5.35 Cząstka, cel
High Pure Indium W 5N-6N 157 7.3 Cząstka, cel
Wysoka czystość magnezu Mg 4N 651 1,74 Drut, cząstki, cel
Wysoka czystość magnezu Mn 3N 1244 7.2 Drut, cząstki, cel
Wysoka czysta molibden Mo 4N 2617 10,22 Drut, arkusz, cząstki, cel
Wysoka czystość niobu Uwaga 4N 2468 8,55 Drut, cel
Wysoko czysty nikiel Ni 3N-5N 1453 8,9 Drut, arkusz, cząstki, cel
Ołów o wysokiej czystości Pb 4N-6N 328 11,34 Cząstka, cel
Pallad o wysokiej czystości Pd 3N-4N 1555 12.02 Drut, arkusz, cząstki, cel
Wysoka czysta platyna Pt 3N-4N 1774 21,5 Drut, arkusz, cząstki, cel
High Pure Silicon Si 5N-7N 1410 2.42 Cząstka, cel
Wysoka czysta cyna Sn 5N-6N 232 7,75 Drut, cząstki, cel
Tantal o wysokiej czystości Ta 4N 2996 16.6 Drut, arkusz, cząstki, cel
Wysoko czysty Tellur Te 4N-6N 425 6.25 Cząstka, cel
High Pure Titanium Ti 4N-5N 1675 4.5 Drut, cząstki, cel
Wolfram o wysokiej czystości W. 3N5-4N 3410 19,3 Drut, arkusz, cząstki, cel
Cynk o wysokiej czystości Zn 4N-6N 419 7.14 Drut, arkusz, cząstki, cel
Wysoka czysta cyrkon Zr 4N 1477 6.4 Drut, arkusz, cząstki, cel

Zakres zastosowania powlekania napylającego: Powłoka napylana jest szeroko stosowana w powlekaniu opakowań, powlekaniu dekoracji, powlekaniu szkła architektonicznego, powlekaniu szkła samochodowego, powlekaniu szkła o niskim promieniowaniu, wyświetlaniu płaskich paneli, komunikacji optycznej / przemyśle optycznym, przemyśle optycznego przechowywania danych, przemyśle optycznego przechowywania danych , przemysł przechowywania danych magnetycznych, powlekanie optyczne, pola półprzewodnikowe, automatyzacja, energia słoneczna, leczenie, film samosmarujący, powlekanie kondensatorów, inne powłoki funkcjonalne itp. (kliknij, aby przejść do szczegółowego wprowadzenia)

Etykietka:

cel napylania wolframu

cele rozpylania metalu

tarcza rozpylająca z tytanu

Skontaktuj się z nami

Wpisz swoją wiadomość

Możesz być w tych